Multifunctional composite PVD equipment

PLI-MPVD系列磁控/多弧/离子源复合PVD镀膜设备

•       磁控溅射/阴极电弧/离子源多功能复合PVD设备

•       平面矩形磁控溅射阴极，旋转阴极可选

•       圆弧与平面矩形电弧阴极，可选

•       电磁控弧技术，弧斑强分散

•       有效减少液滴，提高涂层质量

•       腔体内部尺寸：800-1800mm(直径)×800-1800mm(高)

可镀涂层材料：

•       金属：Ti, Cr, Al, Ag,Au,Ni,Cu...

•       氮化物：TiN, CrN, AlN,SiN,TiAlN, TiAlSiN…

•       碳化物：TiC,SiC,DLC…

•       氧化物：Al2O3,SiO2,TiO2,ZrO2…

应用领域:

•       消费电子（电磁屏蔽、3C数码产品部件等）

•       汽车工业（活塞、耐磨装饰镀膜）

•       工具模具（钻头、铣刀、拉活塞环、轮毂、发动机摩擦部件）

•       钟表行业（表壳、表带、表盘等刀、精密模具等硬质涂层）

•       五金卫浴（卫生洁具、门把手、门锁、水龙头等装饰镀）

•       珠宝工艺品行业（珠宝首饰、工艺品等表面装饰镀膜）